２００７年国际半导体技术发展路线图摘要介绍
2007年版的国际半导体技术发展路线图，是ITRS面世之后的第5次全面修订，于2008年2月正式在世界范围内发布其最后定稿。本文将向读者介绍本版路线图一些新的重要理念，以及对未来十五年内半导体行业面临的严峻挑战进行的汇总。
四十年来，半导体工业最明显的特征之一，就是它的产品的更新换代非常迅速。绝大部分的改进和提高都是由一个特征表示，即制造集成电路的最小尺寸它可以不断地呈指数性地迅速缩小。显然，我们最常引用的发展趋势就是摩尔提出来并以他的名字命名的'摩尔定律“。对于社会来讲，最为重要的发展趋势是降低单位功能的成本，使人们可以享用到更多的计算机、电子通讯产品和消费电子产品，从而大幅度提高了劳动生产率和人们的生活质量。
自从集成电路诞生的那一天起，就有一个基本的假设：微电子器件可以继续按比例缩小并进而降低单位功能的成本，同时扩展半导体集成电路的市场。在高度竞争的半导体市场，从业者无不思考着这样一个问题：究竟需要研发出什么样的技术才能继续沿着摩尔定律指引的方向前进？
为了回答这个问题，美国半导体工业协会（the Semiconductor Industry Association，SIA）发起编写了美国国家半导体技术发展路线图（National Technology Roadmap for Semiconductor，NTRS），共发表了1992年、1994年和1997年三个版本。在1998年，由美国半导体工业协会提议，邀请了欧洲、日本、韩国和中国台湾等国家和地区的人士参加，对路线图进行了更新，最终形成了1999年的第一版国际半导体技术发展路线图（The International Technology Roadmap for Semiconductors，ITRS）。在此之后，国际半导体技术发展路线图在每偶数年份进行更新，每单数年份进行全面修订。ITRS的整体目标是提供被工业界广泛认同的对未来十五年内研发需求的最佳预测。因此，对公司、研发团体和政府都有指导作用。路线图对提高各个层次上研发投资的决策质量都有重要意义，并且帮助将研究方向引导至最需要突破的领域中去。
1发展的两个重要方向：
'More Moore“与'More Than Moore“
这两个发展的重要方向,在2007年的修订过程中经过讨论,可以说是更加明确了。
传统上看，国际半导体技术发展路线图主要专注于CMOS（互补金属氧化物硅）技术的按比例缩小。然而，从2001年版的ITRS开始，我们遇到了这样的挑战：即使是对CMOS工艺按比例缩小的最乐观的估计也会遇到麻烦，比如MOS管的沟道长度能否...
|
== 试读已结束，如需继续阅读敬请充值会员 ==
|
|
本站文章均为原创投稿，仅供下载参考，付费用户可查看完整且有格式内容！
(费用标准：38元/2月，98元/2年，微信支付秒开通！) |
| 升级为会员即可查阅全文 。如需要查阅全文，请 免费注册 或 登录会员 |
|
